高熵合金AlCrTaTiZrRu/(AlCrTaTiZrRu)N0.7扩散阻挡层的制备与性能研究

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【摘要】

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目的验证15 nm厚度AlCrTaTiZrRu/(AlCrTaTiZrRu)N0.7的势垒层热稳定性和扩散阻挡性能。方法采用直流磁控溅射技术在n型Si(111)基片上真空溅射沉积15 nm的AlCrTaTiZrRu(3 nm)/

【作者】

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李荣斌陈童童蒋春霞张如林

【机构】

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上海理工大学材料科学与工程学院,上海电机学院材料学院

【出处】

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表面技术

【发表日期】

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2020年11期

【关键词】

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高熵合金非晶结构磁控溅射扩散阻挡性退火 high-entropy alloyamorphous structuremagnetron sputterin

【基金项目】

：

国家自然科学基金面上项目(51671125),上海大件热制造工程技术研究中心(18DZ2253400)

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目的验证15 nm厚度AlCrTaTiZrRu/(AlCrTaTiZrRu)N0.7的势垒层热稳定性和扩散阻挡性能。方法采用直流磁控溅射技术在n型Si(111)基片上真空溅射沉积15 nm的AlCrTaTiZrRu(3 nm)/(AlCrTaTiZrRu)N0.7(12 nm)双层阻挡层,随后在双层AlCrTaTiZrRu/(AlCrTaTiZrRu)N0.7薄膜的顶部沉积50 nm厚的Cu膜,最终制得Cu/AlCrTaTiZrRu/(AlCrTaTiZrRu)N0.7/Si复合薄膜试样。将样品在真空退火

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