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【摘 要】
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目的验证15 nm厚度AlCrTaTiZrRu/(AlCrTaTiZrRu)N0.7的势垒层热稳定性和扩散阻挡性能。方法采用直流磁控溅射技术在n型Si(111)基片上真空溅射沉积15 nm的AlCrTaTiZrRu(3 nm)/
【机 构】
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上海理工大学材料科学与工程学院,上海电机学院材料学院
【出 处】
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表面技术
【发表日期】
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2020年11期
【基金项目】
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国家自然科学基金面上项目(51671125),上海大件热制造工程技术研究中心(18DZ2253400)
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