【摘 要】
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采用直流电源,以有机溶剂作为碳源,通过电化学沉积方法在单晶硅表面制备了类金刚石碳薄膜.用原子力显微镜、拉曼光谱仪和傅立叶红外光谱仪等表征了薄膜的结构,用DF-PM型动-静
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采用直流电源,以有机溶剂作为碳源,通过电化学沉积方法在单晶硅表面制备了类金刚石碳薄膜.用原子力显微镜、拉曼光谱仪和傅立叶红外光谱仪等表征了薄膜的结构,用DF-PM型动-静摩擦系数精密测定仪考察了薄膜的摩擦学性能.结果表明:电化学沉积含氢类金刚石碳薄膜的硬度较高(约14 GPa),薄膜均匀、致密,表面粗糙度小;在室温干摩擦条件下,薄膜同GCr15钢以及α-Al2O3和Si3N4陶瓷对摩时的摩擦系数随载荷增加而略微减小;陶瓷材料/类金刚石碳膜的摩擦系数较低,钢/类金刚石碳膜的摩擦系数较高;类金刚石碳薄膜同Si
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