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利用外源Spd、PAO抑制剂研究了黄瓜幼苗根系在低氧水培时的生长状况以及内源PAs、H2O2含量和PAO活性的动态变化.结果表明,外源PAs对低氧胁迫下黄瓜幼苗根系的生长有促进作用;低氧处理后3种PAs含量都明显上升,外源Spd和PAO抑制剂增加了根系中的PAs含量,降低了根系中H2O2含量,减缓了低氧伤害;PAs为低氧胁迫的应激产物,PAO为适应酶类,其活性随PAs含量的变化而发生变化.