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利用射频磁控溅射制备了高c轴取向的ZnO薄膜，采用X-射线衍射仪、扫描电镜和紫外-可见光分光光度计研究了退火对ZnO薄膜的结构和光吸收性能的影响。结果表明，退火可以改善ZnO薄膜的质量和光吸收性能。退火后薄膜的结构、形貌和光吸收性能得到改善，薄膜中缺陷减少，晶粒长大致密化，尺寸较均匀；紫外吸收峰变窄，强度增加，吸收边变得陡峭并向长波方向移动，光学带隙降低。450℃退火的ZnO薄膜具有最佳的结晶质量和紫外吸收性能。