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<正> 高纯钛作为溅射靶以TiSi_x、TiN膜的形式用作超大规模集成电路的控制电极、扩散阻挡层及配线材料等。材料中所含重金属
高纯钛的制取
【摘 要】
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<正> 高纯钛作为溅射靶以TiSi_x、TiN膜的形式用作超大规模集成电路的控制电极、扩散阻挡层及配线材料等。材料中所含重金属
【出 处】
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钛工业进展
【发表日期】
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1996年5期
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