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工作波长193纳米投影光刻物镜研究设计
工作波长193纳米投影光刻物镜研究设计
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fdsa5218
【摘 要】
:
介绍工作波长为193nm的投影光刻物镜研究设计,对波长、数值孔径和分辨力的选择,光学结构型式的确定,以及材料和试制加工工艺的考虑,然后给出一个数值孔径NA=O.62,光学结构为
【作 者】
:
陈旭南
罗先刚
林妩媚
余国彬
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
2001年2期
【关键词】
:
激光光刻
光刻物镜设计
工作波长
投影光刻机
193nm ArF laser lithography
design of lithography lens
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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介绍工作波长为193nm的投影光刻物镜研究设计,对波长、数值孔径和分辨力的选择,光学结构型式的确定,以及材料和试制加工工艺的考虑,然后给出一个数值孔径NA=O.62,光学结构为双远心的投影光刻物镜设计结果.
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