【摘 要】
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本发明涉及的内容,是在真空炉内零件渗碳的控制方法,当把碳载体的碳氢化合物气体通入真空炉内时,可用这种方法进行控制。分别在真空和负压下的渗碳是众所周知
The present
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本发明涉及的内容,是在真空炉内零件渗碳的控制方法,当把碳载体的碳氢化合物气体通入真空炉内时,可用这种方法进行控制。分别在真空和负压下的渗碳是众所周知
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