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高气压屏栅电离室的调试和58Ni(n,p)反应双微分截面的试测
高气压屏栅电离室的调试和58Ni(n,p)反应双微分截面的试测
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hello_tyj
【摘 要】
:
介绍了高气压屏栅电离室的结构和调试,并对58Ni(n,p)试测结果进行了分析,结果证明此电离室和测量方法对(n,p)反应的测量是适用的.目前正用此电离室进行测量(n,p)反应截面的实
【作 者】
:
张雪梅
陈泽民
梁伟
唐国有
张国辉
Gledenov Yd
Khuukhenkhuu G
Sedysheva M V
【机 构】
:
清华大学,北京,100084北京大学重离子研究所,北京,100871;俄罗斯联合原子核研究所 Dubna,141980, Russia;
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
高气压屏栅电离室
(n
p)反应
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介绍了高气压屏栅电离室的结构和调试,并对58Ni(n,p)试测结果进行了分析,结果证明此电离室和测量方法对(n,p)反应的测量是适用的.目前正用此电离室进行测量(n,p)反应截面的实验.
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