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分步重复投影光刻机(DSW)照明光学系统的研制

来源 :光学工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hongyin_wangyi

【摘 要】

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本文根据多年来的实验结果和工作经验,探讨在研制投影光刻精细线条的照明系统中,解决关于大照明面积、高照明均匀性、高象面照度及实现多种相干度的部分相干光照明等关键问题

【作 者】

：

张凤鸣 

【出 处】

：

光学工程

【发表日期】

：

1987年04期

【关键词】

：

投影光刻物镜 部分相干光 照明均匀性 投影光刻机 照明光学系统 DSW 相干度 照明系统 

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论文部分内容阅读

本文根据多年来的实验结果和工作经验,探讨在研制投影光刻精细线条的照明系统中,解决关于大照明面积、高照明均匀性、高象面照度及实现多种相干度的部分相干光照明等关键问题,并介绍一种高均匀性照明光学系统的研制结果。

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