【摘 要】
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室温条件下,采用磁控溅射法在碳纤维（CF）表面沉积纳米结构Cu薄膜,为了提高镀层与基材之间的结合牢度,对基材进行低温等离子体预处理。采用X射线衍射仪（XRD）分析薄膜的组分和结晶
【机 构】
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生态纺织教育部重点实验室（江南大学）
【基金项目】
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教育部长江学者和创新团队发展计划项目（IRT1135）, 江苏省高等学校优秀科技团队项目（苏教科[2009]-10）
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室温条件下,采用磁控溅射法在碳纤维（CF）表面沉积纳米结构Cu薄膜,为了提高镀层与基材之间的结合牢度,对基材进行低温等离子体预处理。采用X射线衍射仪（XRD）分析薄膜的组分和结晶状态,用扫描电子显微镜（SEM）分析不同功率下薄膜表面形貌的变化,同时研究了溅射功率对Cu薄膜沉积速率、织物增重率、导电性能和结合牢度的影响。结果表明：薄膜的主要成分是Cu元素,且薄膜结晶良好,结晶度为40.85%;随着溅射功率增大,沉积速率增大,导电性能增强;经过5个冷热循环周期后,在溅射功率为180 W时Cu薄膜有脱落现象,且
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