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本文通过查找高阻隔膜相关专利,认为通过设计铺层结构、增加阻隔层数目来提高阻隔性能将是高阻隔膜一重要发展方向。而为了兼顾成膜效率和膜层性能,在镀膜工艺及设备技术方面的发展也可大致分为两个方向,其一是设备的集成化处理,可实现单次沉积多个阻隔层;其二在于局部设备结构的优化,以提高采用现有技术所制备阻隔膜的性能。