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以Ni-P镀层与裸光纤表面的结合力和Ni-P沉积速度为双目的指标，采用正交实验法分别考察了NiSO4·6H2O、NaH2PO2·H2O、C2H6O2、H3BO3浓度、pH值和温度对石英光纤表面化学镀Ni-P的影响，并确定了它们的优化条件分别为：35g·L^-1，32g·L^-1，20mL·L^-1，28g·L^-1，pH5和84℃。考察了粗化时间对镀层质量的影响。用扫描电镜（SEM）、体视显微镜（SM）、等离子发射光谱仪（ICP）和X-Ray衍射