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HfO2薄膜在紫外光学中具有十分重要的地位，不同方法制备的HfO2薄膜特性不同，可以满足不同的实际应用需求。本文分别利用电子束蒸发和离子束溅射方法制备了用于紫外光区域的HfO2薄膜，并对薄膜的材料和光学特性进行了表征与比较。通过对单层HfO2薄膜的实测透射和反射光谱进行数值反演，得到了HfO2薄膜在230—800nrn波段的折射率和消光系数色散曲线，结果表明两种方法制备的HfO2薄膜在250nm的消光系数均小于2×10^-3.在此基础上，制备了两种典型的紫外光学薄膜元件（紫外低通滤波器和240n