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化学镀铜的沉积过程与镀层性能
化学镀铜的沉积过程与镀层性能
来源 :材料保护 | 被引量 : 0次 | 上传用户:e1r2s3
【摘 要】
:
化学镀铜反应受甲醛氧化过程动力学控制,甲醛氧化为铜离子还原提供电子.化学镀铜层的显微结构受基体的显著影响.镀层延展性降低的主要原因是由氢气泡的缺陷效应,特别是第三类
【出 处】
:
材料保护
【发表日期】
:
2000年1期
【关键词】
:
化学镀铜
基体
析氢
性能
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化学镀铜反应受甲醛氧化过程动力学控制,甲醛氧化为铜离子还原提供电子.化学镀铜层的显微结构受基体的显著影响.镀层延展性降低的主要原因是由氢气泡的缺陷效应,特别是第三类氢气泡、晶粒边界气泡空穴.
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