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介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题，并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析。研究表明，扫描电子柬光刻具有极高的分辨率，但是生产效率较低；波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果，在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时，对电子束的低效率将是一种补充，是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术。