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为研究不同调制比对TC4／ZrB2（tTC4：tZrB2）纳米多层膜结构和机械性能的影响，采用磁控溅射镀膜技术在Si基底上设计制备了一系列具有不同调制比（tTC4：tZrB2）的TC4/ZrB2纳米多层薄膜，利用X线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（HRTEM）和纳米压痕系统对多层膜的晶体结构、断面形貌、硬度、弹性模量和膜基结合情况进行测量，并通过退火处理对多层膜的热稳定性进行分析．结果表明：界面的扩散和畸变抑制了两调制层的结晶生长，使多层膜呈非晶结构．在tTC4：tZrB2为1：