信息记录材料文摘

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用于集成电路技术的红外成像的数学过滤rn 红外成像的计算机处理大大加速了测试结果的估测速rn度。可通过多种途径和方法完成数字化红外影像加工。总的rn来说,定身制定的战略和经仔细推敲对现象进行估计的方法rn是适宜的。在某些情况下,这需要有热工学经验和技术直rn觉。影像过滤是一专门的而不是常用的红外影像分析方法。rn笔者没有获得关于红外影像数学过滤应用方面的信息。1997rn年就该主题发表了第一篇论文。通常红外影像数学过滤适合rn测定用其他方法很难鉴定的热力学缺陷。影像过滤是以温度rn场的恰当转换为基础的,即将温度值变换成影像的像素。rn《成像科学杂志》2000,148(1)rn 在乳剂中加入四唑鎓化合物rn 推迟潜影核的形成rn 在真空条件下将四唑鎓化合物补加到卤化银照相乳剂rn中将极大地延迟潜影核的形成。补加四唑鎓化合物将大大降rn低感光度。通过在乳剂中补加四唑鎓化合物可延迟形成潜影rn核,从而大大提高感光度,使潜影延迟形成后的乳剂感光度rn达到控制水平。因为四唑鎓化合物可作为光解银原子的形成rn位置和提高潜影分散程度,几乎在整个颗粒内形成不能显影rn的亚潜影核和银原子核。通过在真空中延迟形成,分散的亚rn潜影核和银原子能凝聚成可显影的潜影核。rn 《日本写真学会誌》2000(1)rn 除焚烧之外的照相加工废液的rn 各种无害处理方法rn 因为禁止向海中倾倒工业废液,一般通过焚烧来处理照rn相加工废液。从最近的环境研究来看,由焚烧造成的危害已rn引起人们的关注。本文回顾了各种照相加工废液的处理方法rn并试验一种新的焚烧后处理方法。讨论了用生物分解来处理rn照相加工废液的可行性。从降低成本和环境污染方面来看,rn预计这种方法是最安全和最可靠的。rn 《日本写真学会誌》2000(1)rn 通过设在彩色区的维纳(Wiener)滤色镜rn 提高带噪声的影像质量rn 本文推荐了一种新的提高影像总体质量的维纳滤色镜rn方法。通过降低噪声还原在不引起清晰度下降的情况通过叠rn加噪声来修复影像。设计维纳滤色镜是为了使RGB色区的原rn始影像与修复影像的均方差最小。实验表明,我们推荐的方rn法比常规滤色镜能更有效地提高带噪声的影像质量。rn 《日本写真学会誌》2000(1) 桑建新摘编rn 光盘的发展及其支撑技术--马达技术rn 在数字网络时代,用PC和家用设备处理的以动画为主的rn大容量数字信息,已成为现实。为适应信息时代的要求,作为可rn进行大容量记录的光盘装置,开发了4.7GB DVD-RAM驱动rn器。本文论述了支撑这种大容量化、高速化的马达技术。光盘马rn达的技术课题有转盘面的振摆精度、盘的装盘调心精度和旋转rn时的减震技术;移送光头的进给马达的课题,包括定位精度和rn查找的高速化。另外,作为共同的课题还有降低耗电量和发rn热。尤其是光盘马达的发热会引起光盘的热膨胀,从而导致翘rn曲精度的劣化。4.7GB DVD-RAM驱动器开发了采用流体轴rn承盘马达及PWM驱动IC技术的盘驱动机构、采用闭环控制步rn进马达的光头移送机构,以及根据温度检测控制盘翘曲的光盘rn马达发热控制技术,解决了上述课题。rn Matsushita Tech J(JPN)46(1)39-44(2000)rn 垂直各向异性氧化铝膜记录介质的rn 时间依存性rn 在氧化铝的表面氧化皮膜的垂直孔中填充磁性金属,制rn作了题记记录介质。在厚度为1μm的氧化铝膜中填充Corn(钴)制成试样。将该试样一分为四,用机械研磨方法将表面rn的皮膜研磨成0.23~0.50 μm。在1000 kA/m2的磁场中进行rn饱和磁化,然后测量并记录了至2000 s的磁化衰减。用振动rn型和转矩型磁强计测量了磁特性。磁化随时间的衰减,最初rn有短时间的平坦部,以后开始随时间衰减,在500~600 kA/rnm处稳定下来。磁性粒子活性化体积对全体积之比,是随皮rn膜的研薄而增大,在0.26~0.70的范围内。rn IEICE Trans Electron(Inst Electron Inf Commun Eng)rn(JPN)E82-C(12)2176~2183(1999)rnDV摄像机的发展及蒸镀带的摩擦特性rn磁带介质不仅单位体积的记录密度高,而且传输速度rn快,价格便宜。由于这些优点使磁带作为核心记录介质广泛rn普及。而且,通过各种技术革新,年年刷新记录密度,高密度rn化不断发展,实现了进一步的高音质、高画质及小型化。在磁rn带介质中,蒸镀带一直是作为终极磁带介质开发的。蒸镀带rn的开发目标是真空工艺技术、提高电磁转换特性和确保实用rn可靠性。其中,要确保实用可靠性,摩擦技术是必不可少的技rn术。所谓实用可靠性包括静寿命耐久性、走带耐久性和保存rn耐久性等。在实际使用环境下,要求有充分的可靠性。蒸镀带rn的摩擦技术可以说是发挥润滑剂、保护膜和表面形状控制三rn要素几何效应的技术,是磁记录领域发展的关键技术。本文rn根据摩擦要素和磁带特性,阐述了金属薄膜介质所要求的润rn滑剂分子设计和边界润滑机构。rn Matsushita Tech J(JPN)46(1)31~38(2000)rn 边际摘编
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