2m比长仪纳米级精度线间距测量系统的研究

来源 :计量学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chengkemin
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介绍了2m比长仪系统的组成,对其采用光电显微镜动态瞄准刻线和激光干涉测长原理进行了分析,研究了提高刻线瞄准精度和激光干涉测长精度的方法及利用现代电子技术实现刻线信号和干涉信号自动同步快速处理方法。自动信号处理系统基于FPGA现场可编程电路技术和计算机技术。通过对金属线纹尺测量的实验表明,依据JJG331—1994激光干涉比长仪检定规程进行实验,2m比长仪单次最佳刻线瞄准精度优于10nm(la),对其测量的不确定度分析表明,对于测量高质量的高等别线纹尺,其测量不确定度U=(20+40L)nm(k=2)。
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