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SiH4，Si2H6的制备与分离

来源 :低温与特气 | 被引量 : 0次 | 上传用户：shenshenxiaomo

【摘 要】

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用Mg2Si制备SiH4必然伴随产生Si2H6.经二级低温冷凝 ,分子筛吸附和恒温恒压汽化等工艺技术过程,能够对两种气体进行最有效的分离 .并且可以制备Si2H6和总杂质含量≤10×1

【作 者】

：

余京松 田波 

【机 构】

：

浙江大学硅材料国家重点实验室,光明化工研究设计院

【出 处】

：

低温与特气

【发表日期】

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2001年3期

【关键词】

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甲硅烷 乙硅烷 低温冷凝 分子筛 恒温恒压汽化 

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论文部分内容阅读

用Mg2Si制备SiH4必然伴随产生Si2H6.经二级低温冷凝 ,分子筛吸附和恒温恒压汽化等工艺技术过程,能够对两种气体进行最有效的分离 .并且可以制备Si2H6和总杂质含量≤10×10-6,基磷＜0.2×10-9, 基硼＜0.05×10-9的高纯SiH4.

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