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以SnCl2·2H2O、CuCl2·2H2O，SbCl3和无水乙醇为原料，采用sol—gel浸渍提拉法（sol-gcl dip-coating method，SGDC）制备了纳米晶气敏薄膜。在多个工作温度和气体浓度下测试了薄膜对H2S的气敏特性。结果表明：r（Cu：Sb：Sn）为1：5：100，工作温度为140℃时，薄膜对H2S有很好的灵敏度和选择性，敏感浓度下限可达0．7×10^-6。