【摘 要】
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双束聚焦离子束（DB-FIB）已经成为半导体工业中,尤其是失效分析（FA）工作中非常重要的工具,被广泛应用于集成电路的缺陷分析和修整、TEM（透射电子显微镜）的薄片试样制备等方面。在制
【机 构】
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武汉新芯集成电路制造有限公司分析实验室
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双束聚焦离子束（DB-FIB）已经成为半导体工业中,尤其是失效分析（FA）工作中非常重要的工具,被广泛应用于集成电路的缺陷分析和修整、TEM（透射电子显微镜）的薄片试样制备等方面。在制备TEM样品时,为了避免后期切削时Ga离子束对表层的损伤,在Ga离子束切削样品之前往往会在样品需要观测的位置上沉积一层Pt薄膜作保护层。目前,最常用的方法是先用电子束辅助沉积（E-beam assisted deposition）的方法在样品表面镀一层Pt薄膜,然后再在其上用离子束辅助沉积（I-beam assisted d
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