MOCVD生长Si衬底上HT-AlN缓冲层低生长压力对GaN薄膜的影响

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zumei2003

【摘要】

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【作者】

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韩军赵佳豪邢艳辉史峰峰杨涛涛赵杰王凯

【出处】

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发光学报

【发表日期】

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2004年期

【关键词】

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高温AlN缓冲层氮化镓金属有机化学气相沉积 X射线衍射拉曼光谱

【基金项目】

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国家自然科学基金(61204011,11204009,61574011);北京市自然科学基金(4142005);北京市教委科研基金(PXM2017_014204_500034)资助项目~~

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回回产卜爹仇贱回——回日E回。”。回祖一回“。回干肉果幻中 N_。NH lP7-ewwe--一”＄ MN。W;- __._——————》砧叫]们羽制作:陈恬’＃陈川个美食 Back to yield Buddy revenge - back to Japan E back. “Back once again.” Back to the dried meat in the magic N_. NH lP7-ewwe - “a” $ MN.W; - __._ - ------ "anvil called] feather production: Chen Tian

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