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采用电阻热蒸镀法，分别以不同的沉积温度在锗基底上制备了PbTe薄膜。用X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）和红外光谱测试仪（System 2000）表征了不同沉积温度下薄膜的微结构和光学特性。结果表明，沉积温度对PbTe薄膜的结构，择优取向、生长方向、晶粒大小、禁带宽度以及短波吸收限均有明显影响。