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介绍了利用AZ5214光刻胶及ZKPI-305IID型非光敏聚酰亚胺制作的两种不同的剥离层,即双层AZ5214和ZKPI+AZ5214。此两种剥离工艺简单易操作,可剥离出1μm金属镍柱,并可在MEMS工艺制作中获得了良好的效果。
剥离技术制作金属互连柱及其在MEMS中的应用
【摘 要】
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介绍了利用AZ5214光刻胶及ZKPI-305IID型非光敏聚酰亚胺制作的两种不同的剥离层,即双层AZ5214和ZKPI+AZ5214。此两种剥离工艺简单易操作,可剥离出1μm金属镍柱,并可在MEMS工
【机 构】
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华中科技大学光电子工程系
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2005年12期
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