【摘 要】
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描述了本室的激光泵浦X射线激光计划。其长远目标是发展和利用完全相干吉 瓦功率水平和4.4 nm以下的激光器。为此，我们一直研究与各种反转机制、类氖和类镍碰撞激发和类氫三体复合等结合的爆炸箔放大器特征。至今大多数实验结果是关于类氖方案的；已观察到Se、Υ和Mo的15个激光跃迁，其波长从26.3至10.6 nm。Se的J=2到1,20.6和20.9 nm谱线输出功率至少有1 MW，并观察到光束的几何发散场图。还观察到这些放大器随时间变化的光束折射，并能用正入射多层反射镜演示双通放大。讨论了关于改善光束相干性和
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描述了本室的激光泵浦X射线激光计划。其长远目标是发展和利用完全相干吉 瓦功率水平和4.4 nm以下的激光器。为此，我们一直研究与各种反转机制、类氖和类镍碰撞激发和类氫三体复合等结合的爆炸箔放大器特征。至今大多数实验结果是关于类氖方案的；已观察到Se、Υ和Mo的15个激光跃迁，其波长从26.3至10.6 nm。Se的J=2到1,20.6和20.9 nm谱线输出功率至少有1 MW，并观察到光束的几何发散场图。还观察到这些放大器随时间变化的光束折射，并能用正入射多层反射镜演示双通放大。讨论了关于改善光束相干性和产生波长短于4.4 nm激射的进一步计划。
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本文研究了指数型光脉冲上升沿对阈上离化的影响.结果表明,在essentral states模型的基础上计及光脉冲中光强的时间变化,即可对阈上离化中各连续态粒子数分布及峰开关效应的时间发展作合理的描述.
在短波红外成像光谱技术的应用背景下,对HgCdTe短波红外焦平面探测器的校正技术进行研究,包括坏像元校正和非均匀性校正,并提出先进行坏像元校正后进行非均匀性校正的探测器校正原则;在标准辐射源下,对正常像元的输出值进行正态分布拟合,并通过3σ准则设定正常像元输出值阈值的方法,确定探测器中坏像元的数量与位置,然后根据短波红外成像光谱技术的应用要求,对坏像元进行光谱二邻域均值替换;坏像元校正完成后,再采用运算量小、实时性强的两点法对探测器进行非均匀性校正。综合校正结果表明:探测
三角测量法是一种位移测量方法, 其测量精度不但受到传感器本身因素如光源、探测器、机械结构特性等因素的影响, 还受到被测表面特性如色泽、材料、粗糙度、倾斜度以及外界环境的影响。国内外的一些学者提出了许多提高传感器测量精度的方法, 但这些研究都是针对某一特性表面进行的, 没有涉及到对不同表面的测量时存在的问题。利用随机行走理论对物体表面的散射场进行了分析, 给出了不同粗糙度表面下弱散射光强与散射角及入射角的关系。由于设计制造的传感器量程范围内接收散射光的角度在15°至25°内变化, 因此取20°作为散射角角度
利用电磁理论和传输矩阵法仿真得到了在0.3~6.935GHz微波波段具有负折射率的左手材料，并分别对右手材料和左手材料构成的光子晶体带隙特点进行了分析.结果表明：右手材料光子晶体结构的带隙对周期数变化不敏感，而对层厚度比、入射角度变化敏感；左手材料光子晶体带隙随层厚度比的增大，带隙位置出现蓝移，随着入射角度的增大，TM波主带隙的上带边会出现红移，而TE波带隙特性对入射角度变化不敏感.研究结果对微波技术中全方位反射器等器件的设计有一定的参考意义.
激光感应的荧光的肘间变化过程与发射波长的关系，似乎构成一种新的光谱信号，由于它的测量比荧光振幅测量更为可靠，故荧光衰变在远程传感的应用上，可提供更为精确的分辨能力，甚至可在光谱分析方面，开辟一个新的领域。为了改进激光荧光传感器的效能，研究 了荧光衰变光谱。该仪器可能的应用包括：油温的鉴定、海藻的分布探查，以及水的温度、性质、运动的监测。
对李奥(Lyot)双折射滤光器的出射振幅进行傅里叶分析,可看出博里叶系数都等于1/2~N,N是滤光器的级数.我们找到一种等傅里叶系数双折射滤光器,它由两个偏振片之间放置任意数m的等厚双折射晶片组成,选择晶片之间的角差分布,使其出射光傅里叶系数相等为1/(m 1),当两偏振片平行,晶片角递增时,其傅里叶系数全等。程差为波长的整数倍时,透过极大。当两偏振片相互垂直,晶片角正负相间时,傅里叶系数仅数值相等,而符号正负相间,程差为半波长的整数倍时,透过极大,只需以(m 1)替换2~N代入L滤光器有关性能的公式中,
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外腔延时特征(TDS)和带宽是影响混沌激光应用的两个重要参量。将一个具有相位调制光反馈的半导体激光器输出的激光注入到另一个具有光电反馈的半导体激光器中,构成一个具有外光注入的光电反馈半导体激光器系统,即主从激光器系统,用于降低混沌激光的TDS并提高其带宽。数值研究了外光注入系数、反馈强度和抽运因子对TDS的影响,并研究了主激光器输出混沌光的TDS对从激光器输出混沌光TDS的影响。然后在TDS被有效抑制的基础上研究了系统输出混沌激光的带宽,结果表明:该方案可以有效地降低混沌激光的TDS,外光注入系数、反馈强
一般讲，如果只考虑器件的功率特性，则制造大功率激光器并不太困难。但要想制出同时具有大功率和稳定单纵模与横模的激光器则很难。然而，在诸如高速激光印刷、光盘记录以及远距离空间通信等许多应用中，偏偏要求激光器具备这些特性。为了满足大功率及稳定模式的要求，人们已研制出许多种结构的激光器。这些结构包括压缩双异质结大光腔(CDHLOC)、掩埋条形异质结构(SBH)、 窗口条形(WS)、沟槽衬底平面结构（CSP)以及双边衬底（TRS )等。所有这些激光器的激光功率都可以超过50 mW/面。但是，在输出功率超过30 mW