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Si(001)表面In量子线的第一原理研究
Si(001)表面In量子线的第一原理研究
来源 :原子与分子物理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wubo123321
【摘 要】
:
利用第一原理理论研究了金属In在Si(001)表面吸附的原子结构.结果表明,In原子的吸附不破坏村底Si的二聚体化学键.在低覆盖率时,In原子在Si(001)村底上形成有序量子线,取向沿村底Si的二
【作 者】
:
戴宪起
琚伟伟
吴新华
李同伟
【机 构】
:
河南师范大学物理系,河南科技大学数理系
【出 处】
:
原子与分子物理学报
【发表日期】
:
2006年4期
【关键词】
:
量子线
铟
硅
第一原理
Quantum wire
indium
silicon
first-principles
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利用第一原理理论研究了金属In在Si(001)表面吸附的原子结构.结果表明,In原子的吸附不破坏村底Si的二聚体化学键.在低覆盖率时,In原子在Si(001)村底上形成有序量子线,取向沿村底Si的二聚体化学键方向.计算结果显示相邻In线之间不存在排斥作用.
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