用同步辐射XRF和基本参数法分析

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利用同步辐射X荧光分析技术,采用基本参数法,定量分析了单晶硅中掺杂元素Ge的含量。程序用标样进行了检验,误差小于12%. Using synchrotron radiation X-ray fluorescence analysis technology, the basic parameter method was used to quantitatively analyze the content of doping element Ge in monocrystalline silicon. The program was tested with the standard, the error is less than 12%.
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