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<正> 昭和电工有限公司在川崎工厂内完成了供半导体工艺使用的特殊气体三氟化氮的制造装置(年产能力为100公斤、稍加调整就能达到1吨),已提供产品正式销售。三氟化氮国产化在该公司开始。三氟化氮作为不含碳成分的氟系气体,用于半导体的高性能干蚀刻用气体、各种化学气相合成装置的清洗气、激光用气体和光
用独创技术生产三氟化氮
【摘 要】
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<正> 昭和电工有限公司在川崎工厂内完成了供半导体工艺使用的特殊气体三氟化氮的制造装置(年产能力为100公斤、稍加调整就能达到1吨),已提供产品正式销售。三氟化氮国产化在
【出 处】
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无机盐工业
【发表日期】
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2004年期
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