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管式PECVD设备镀膜均匀性研究

来源 :通信电源技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：szhg5583

【摘 要】

：

文章重点分析了管式PECVD镀膜均匀性的影响因素。通过改变PECVD镀膜过程中的腔体压力、镀膜前的恒温时间及金字塔绒面均匀性、石墨舟清洗配方等因素进行实验研究。结果显示,

【作 者】

：

代同光 李拴 郭永刚 宋志成 

【机 构】

：

西安太阳能电力有限公司

【出 处】

：

通信电源技术

【发表日期】

：

2018年09期

【关键词】

：

均匀性 镀膜 改善 

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论文部分内容阅读

文章重点分析了管式PECVD镀膜均匀性的影响因素。通过改变PECVD镀膜过程中的腔体压力、镀膜前的恒温时间及金字塔绒面均匀性、石墨舟清洗配方等因素进行实验研究。结果显示,适当降低PECVD镀膜压力,增加镀膜前恒温时间、提升镀膜前硅片绒面均匀性、降低石墨舟表面粗糙度可以提升PECVD镀膜均匀性。

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