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采用激光熔覆工艺,在42SiMn表面制备了纳米SiC陶瓷涂层,对涂层的成分、物相、微观组织等进行了分析.结果表明,选用合理的工艺参数,利用激光熔覆可以得到质量较好的纳米SiC陶瓷涂层,但SiC晶粒尺寸有所长大,且熔覆过程中有分解反应,产生纳米Si与C.
42SiMn表面激光熔覆SiC纳米陶瓷涂层试验研究
【摘 要】
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采用激光熔覆工艺,在42SiMn表面制备了纳米SiC陶瓷涂层,对涂层的成分、物相、微观组织等进行了分析.结果表明,选用合理的工艺参数,利用激光熔覆可以得到质量较好的纳米SiC陶
【机 构】
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南京航空航天大学
【出 处】
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材料开发与应用
【发表日期】
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2003年4期
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