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灵活的硅片定向定位注入－先进的ＣＭＯＳ器件制造技术对离子注入技术发展的新要求。
斜角及旋转式离子注入技术
【摘 要】
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灵活的硅片定向定位注入－先进的ＣＭＯＳ器件制造技术对离子注入技术发展的新要求。
【出 处】
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微电子技术
【发表日期】
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1995年6期
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