SF6过热产生H2S的激光光谱法快速分析

来源 :武汉大学学报（工学版） | 被引量 : 0次 | 上传用户：a596298067

【摘要】

：

对SF6局部过热模拟设备中分解产生的微量特征组分H2S,采用快速可调谐半导体激光吸收光谱(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy,简称TDLAS)技术,进行了实时检测.结果

【作者】

：

刘翔李瑶马冬莉胡雪蛟

【机构】

：

武汉大学水力机械过渡过程教育部重点实验室,湖北武汉,430072

【出处】

：

武汉大学学报（工学版）

【发表日期】

：

2018年8期

【关键词】

：

六氟化硫硫化氢过热故障 TDLAS技术

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对SF6局部过热模拟设备中分解产生的微量特征组分H2S,采用快速可调谐半导体激光吸收光谱(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy,简称TDLAS)技术,进行了实时检测.结果表明:SF6开始分解产生H2S的温度可低至文献报道的下限温度350℃以下,且反应几乎是瞬时完成.H2S生成量与加热温度之间并不是简单的递增关系,而是存在一定的温度窗口对应H2S浓度峰值.这些发现可为SF6分解特性研究以及气体绝缘设备故障诊断提供参考.

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