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本文分析了离焦量对微透镜列阵成像光刻图形质量的影响，给出了系统离焦量的容差。同时提出了一种结构简单、可应用于微透镜列阵成像光刻系统调焦的新方法。并将基于该调焦方法的实验装置应用于微透镜列阵成像光刻系统，进行了光刻实验。实验表明，利用该方法对微透镜列阵成像光刻系统调焦，可得到接近微透镜列阵极限像质的光刻图形。