【摘 要】
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进行了在单靶头磁控溅射装置上采用复合靶溅射制备Mg/Si混合膜的工艺研究 ,制备出了不同组分的Mg/Si混合膜 ,并利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜 (AFM )、透射电镜 (TEM )
【机 构】
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中国工程物理研究院高温高密度等离子体物理国家重点实验室,中国工程物理研究院高温高密度等离子体物理国家重点实验室,中国工程物理研究院高温高密度等离子体物理国家重点实验室,中国工程物理研究院高温高密度等离
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进行了在单靶头磁控溅射装置上采用复合靶溅射制备Mg/Si混合膜的工艺研究 ,制备出了不同组分的Mg/Si混合膜 ,并利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜 (AFM )、透射电镜 (TEM )等测试手段 ,对混合膜的结构进行了初步分析。分析结果表明 :Mg/Si混合膜中的镁以单取向多晶形式存在 ,硅以非晶形式弥散在镁的晶粒之间
The preparation of Mg / Si mixed films by sputtering target sputtering was studied. The mixed Mg / Si films with different compositions were prepared and characterized by X - ray diffraction (XRD), atomic force Microscopy (AFM), transmission electron microscopy (TEM) and other testing methods, the structure of the hybrid membrane was initially analyzed. The results show that the Mg in the Mg / Si mixed film exists in a unidirectional polycrystalline form, and the amorphous silicon is dispersed in the grains of magnesium
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