【摘 要】
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为缩短实验前的等待时间,减小热辐射对光学元件的损伤以及热变形对实验的影响,充分利用同步辐射X射线获得稳定有效的实验结果,对X射线干涉光刻(XIL)光束线偏转聚焦系统进行了
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,中国科学院大学,
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为缩短实验前的等待时间,减小热辐射对光学元件的损伤以及热变形对实验的影响,充分利用同步辐射X射线获得稳定有效的实验结果,对X射线干涉光刻(XIL)光束线偏转聚焦系统进行了热-结构耦合分析。针对上海光源(SSRF)的光源参数,计算偏转聚焦系统所受的热功率密度分布,在此基础上对偏转聚焦系统在相同载荷、不同边界条件下进行了瞬态热平衡分析,得到双柱面镜M1、M2达到热平衡所需的时间、温度分布,并做了比较分析。结果表明,对XIL光束线上偏转聚焦系统的M1、M2采用间接水冷方式可削弱热载效应,达到热平衡的时间分别由8677s和7850s缩短到960s和840s,最高温度分别由182.73℃和129.73℃降低到57.94℃和47.29℃,此时的最大面形误差分别为7.23μrad和9.24μrad,缩短了从开机到实验的等待时间,在提高实验效率的同时能够获得稳定有效的实验结果。
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