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采用富立叶变换红外光谱（FTIR）和全反射红外光谱（FTIR／ATR），研究了半固化的HTPB／TDI衬层表面的活性基团以及不同的-NCO基团与不同羟基的反应速率。结果表明，半固化的HTPB／TDI衬层表面含有大量的-NCO基团；HTPB／TDI衬层和NEPE推进剂粘合剂相的-NCO基与-OH的交叉反应速度较NEPE推进剂的固化反应速度快得多。HTPB／TDI衬层与NEPE推进剂界面的化学反应机理是粘合剂相中-OH基和-NCO基的交叉反应，其中衬层中TDI分子的-NCO基与PEG分子的-OH基的反应速度稍