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粉末冶金法制高纯溅射铬靶材的方法
粉末冶金法制高纯溅射铬靶材的方法
来源 :山西冶金 | 被引量 : 0次 | 上传用户:R_Edge
【摘 要】
:
通过试验重点对粉末冶金法制备高纯溅射铬靶材的传统烧结工艺进行了分析和优化研究.试验结果表明,采用“模压+烧结”或者“冷等静压+烧结”的方式加工靶材,并合理控制烧结温度,
【作 者】
:
张新房
【机 构】
:
深圳正和忠信股份有限公司
【出 处】
:
山西冶金
【发表日期】
:
2014年4期
【关键词】
:
粉末冶金法
高纯溅射铬靶材
方法
powder metallurgy
high-purity chromium sputtering target
meth
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通过试验重点对粉末冶金法制备高纯溅射铬靶材的传统烧结工艺进行了分析和优化研究.试验结果表明,采用“模压+烧结”或者“冷等静压+烧结”的方式加工靶材,并合理控制烧结温度,能够有效保证靶材的密度.
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