一种基于SPLAT的离轴照明成像算法的研究与实现

来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sda_xiangwei

【摘要】

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如何提高光刻的分辨率已成为超深亚微米集成电路设计和制造的关键技术.文章简要介绍了分辨率提高技术之一的离轴照明的原理及其构造形式,介绍了部分相干的二维透射系统的仿真

【作者】

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付萍王国雄史峥陈志锦严晓浪

【机构】

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东华理工学院,鞍山科技大学,浙江大学

【出处】

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微电子学

【发表日期】

：

2003年3期

【关键词】

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光刻深亚微米IC工艺离轴照明光学邻近校正集成电路 SPLAT Photolithography Deep Submicron IC Process Of

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如何提高光刻的分辨率已成为超深亚微米集成电路设计和制造的关键技术.文章简要介绍了分辨率提高技术之一的离轴照明的原理及其构造形式,介绍了部分相干的二维透射系统的仿真程序SPLAT的特点,并用SPLAT实现了一种新的照明结构,为实际开发光学邻近校正(OPC,Optical Proximity Correction)仿真工具增加了新的功能.

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