【摘 要】
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采用复合电镀技术在铜基上制备了高硬度、高耐磨的Ni—SiC纳米镀层。研究了阴极电流密度、镀液pH、温度以及搅拌速度对复合沉积层的显微硬度和共沉积速率的影响，同时优化了各
【机 构】
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西安理工大学理学院,西北工业大学理学院
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采用复合电镀技术在铜基上制备了高硬度、高耐磨的Ni—SiC纳米镀层。研究了阴极电流密度、镀液pH、温度以及搅拌速度对复合沉积层的显微硬度和共沉积速率的影响，同时优化了各工艺参数，并对Ni—SiC纳米复合镀层进行了表面形貌和能谱分析。实验结果表明，Ni—SiC纳米复合电镀层表面平整光滑，显微组织均匀、致密，其显微硬度也较纯镍镀层有显著提高。
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