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在5G、物联网、AI等高端应用的持续催化下,设备作为半导体元器件制造的基础,面临的关键技术挑战越来越多.rnALD (原子层沉积)以前是一个不起眼的工艺,随着集成电路技术不断演进,ALD逐步成为半导体器件突破挑战的主要工艺之一.
ASM:先进制程设备需求旺,ALD和Epir产品线强劲增长
【摘 要】
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在5G、物联网、AI等高端应用的持续催化下,设备作为半导体元器件制造的基础,面临的关键技术挑战越来越多.rnALD (原子层沉积)以前是一个不起眼的工艺,随着集成电路技术不断演
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2020年4期
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