【摘 要】
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使用中频磁控溅射法制备了具有光学减反射与电学钝化的复合功能的氮化硅（SiNx）薄膜,并对其结构和性能进行了综合研究。结果表明：在常规制绒硅片上沉积的两种不同折射率的单层SiN
【机 构】
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中山大学太阳能系统研究所∥广东省光伏技术重点实验室,青海民族大学物理与电子信息科学学院
【基金项目】
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青海省应用基础研究计划资助项目（2014-ZJ-725）,广东省科技计划资助项目（2014A010106009）
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使用中频磁控溅射法制备了具有光学减反射与电学钝化的复合功能的氮化硅（SiNx）薄膜,并对其结构和性能进行了综合研究。结果表明：在常规制绒硅片上沉积的两种不同折射率的单层SiNx减反膜表现出优异的光学性能,其在300-1 100 nm波段的平均反射率由镀膜前的14.86%下降到镀膜后的5.50%和6.58%;若采用多层的氮化硅（m-SiNx）＋氮氧化硅（SiOx Ny）薄膜作为减反层,则其平均反射率进一步下降到4.03%。同时,优化工艺制备得到的掺氢氮化硅（Si Nx∶H）薄膜,表现出良好的电学钝化特性。试
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