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利用等离子体发射光谱监测系统（PEM）控制钒的等离子强度，在石英基底上磁控溅射制备了VO2薄膜。采用XRD、XPS、SEM、紫外-可见-近红外分光光度计及傅立叶红外分光光度计研究薄膜的结构、光学及相变特性。结果表明，所制备的VO2薄膜具有（011）取向，VO2薄膜的热滞回线宽度为25℃，可见光透过率和太阳光调节率分别可达Tlum,l=34．1％、Tlum,h=35．3％和△Tsol=6．8％，相变前后，红外光区的反射率变化最大值可达44．4％。