【摘 要】
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为低成本、规模化制备高比表面积碳化硅,以工业级沉淀白炭黑为硅源,葡萄糖粉剂为碳源,采用简单的碳热还原法制备了硼掺杂高比表面积碳化硅。利用X射线衍射仪、扫描电镜、比表
【机 构】
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武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省环境材料与膜技术工程技术研究中心
【基金项目】
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国家科技支撑计划项目(2013BAB07B05),国家自然科学基金项目(71303180),武汉工程大学研究生教育创新基金项目(CX2017017).
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为低成本、规模化制备高比表面积碳化硅,以工业级沉淀白炭黑为硅源,葡萄糖粉剂为碳源,采用简单的碳热还原法制备了硼掺杂高比表面积碳化硅。利用X射线衍射仪、扫描电镜、比表面积测试仪和紫外.可见吸收光谱测试方法对碳化硅的晶型、形貌、表面性质及能带结构进行了表征。分析结果表明:B原子进入SiC晶格并取代Si点位,在1350℃焙烧温度时,SiC具有最高比表面积和较低禁带宽度,随着B/Si摩尔比增大,SiC结晶度提高,比表面积减小,禁带宽度减小。
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