论文部分内容阅读
通常在托卡马克第1壁沉积1层B膜，以降低托卡马克等离子体的O杂质。在HT-7第1壁位置处放了几个石墨样品，它们与HT-7一起硼化。硼化后取出部分样品膜，剩余样品留在真空室接受聚变等离子体的轰击。对鲜膜和轰击膜进行XPS分析，发现在成膜过程中B膜开始吸O；等离子体轰击时，B膜进一步吸O。O在膜中与B以化合态B2O3形式存在。并对实际中存在的一些问题进行了探讨。