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采用高电压、低气压的离子渗氮工艺，利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对合金钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理。对渗氮层的硬度、深度和组织结构等进行了分析研究。结果表明，在纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理过程中放电电压起关键作用，只有当直流辉光放电电压高于800V时，才能进行离子渗氮处理。通过分析用铜片采集的等离子放电空间的粒子发现，放电电压高于800V时，沉积在铜片表面的粒子是能进行渗氮处理的氮化铁；而放电电压低于800V时，沉积在铜片表面的粒子主要是氧化铁。