退火处理对Y2O3薄膜结构和光学性能的影响

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【摘要】

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采用射频磁控溅射法以Y2O3陶瓷为靶材在单晶Si（111）和石英表面制备了Y2O3薄膜。利用X射线衍射（XRD）仪、扫描电子显微镜（SEM）、紫外-可见（UV-VIS）光谱仪和傅立叶变换红外（FTIR）光谱仪对

【作者】

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闫锋刘正堂刘文婷刘其军

【机构】

：

西北工业大学材料学院

【出处】

：

材料导报

【发表日期】

：

2010年16期

【关键词】

：

Y2O3薄膜晶体结构退火处理透过率光学带隙 Y2O3 thin film crystal structure annealing treatment

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采用射频磁控溅射法以Y2O3陶瓷为靶材在单晶Si（111）和石英表面制备了Y2O3薄膜。利用X射线衍射（XRD）仪、扫描电子显微镜（SEM）、紫外-可见（UV-VIS）光谱仪和傅立叶变换红外（FTIR）光谱仪对真空退火前后Y2O3薄膜的结构和光学性质进行了分析研究。结构研究表明，在200℃条件下制备的Y203薄膜为非晶态，经600℃退火后出现单斜相，经800℃退火后薄膜完全转化为立方多晶，同时得到了不同晶面的晶粒尺寸；沉积态的Y203薄膜由球状颗粒排列组成，经800℃真空退火后薄膜为柱状晶。光学性质研究发

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