论文部分内容阅读
根据所需光刻图形的分布，反推掩模结构的思路，提出了一种基于交替投影算法的掩模设计方法。该方法设计出的掩模为振幅和相位连续。并给出了一个设计实例和量化方法。实验结果表明该方法对复杂相移掩模的设计有效，可以减小邻近效
基于凸投影算法的多相位掩模设计原理研究
【摘 要】
：
根据所需光刻图形的分布，反推掩模结构的思路，提出了一种基于交替投影算法的掩模设计方法。该方法设计出的掩模为振幅和相位连续。并给出了一个设计实例和量化方法。实验结果表
【机 构】
：
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都电子科技大学计算机学院
【出 处】
：
微细加工技术
【发表日期】
：
2001年1期
【基金项目】
：
国家重点实验室基金，国家自然科学基金
其他文献
研究了将冷却微通道、微型测温元件以及微型发热元件集成在同一张单晶硅片上的设计和制作方法,同时讨论了由掺磷多晶硅制成的测温元件和发热元件的电阻温度特性,并给出微型测
介绍了一种基于微加工技术的新方法--纳米岛光刻技术.利用该技术制造出几十纳米到微米尺度的岛结构,然后利用剥离、刻蚀等微加工技术,将该岛转化成纳米孔、纳米岛、纳米井等
用CH4和H2为反应气体,在热丝化学气相沉积系统中用不同的沉积条件直接在Si衬底上制备了纳米金刚石,并用高分辨扫描电子显微镜和显微Raman光谱仪对它们进行了表征.结果表明,在