用GXRD和XPS分析离子注入层的表面结构

来源 :理化检验(化学分册) | 被引量 : 0次 | 上传用户:bluesky8013
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采用由金属蒸气真空弧(MEVVA)离子源引出的强束流脉冲钨离子对Hl3钢进行了离子注入表面改性研究.借助掠面X射线衍射(GXRD)和X射线光电子能谱(XPS)考察了注入表面层的相结构以及钨、铁、碳的化学状态.研究发现,表面的含碳化钨层比含铁、钨氧化层要厚,离子注入层中钨元素以替位钨和三氧化钨形式存在,铁元素以金属铁和三氧化二铁形式出现,而且各价态元素的原子比随深度变化.
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