Al／Al2O3多层膜的表面和界面的分析研究

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhanagyuxing

【摘要】

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用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜.用X射线光电子谱仪(XPS)和透射电镜(TEM)对样品进行检测.XPS实验说明自然氧化的Al2O3膜层厚在2～5 nm.Al/

【作者】

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薛钰芝 Martin A Green

【机构】

：

大连铁道学院,澳大利亚新南威尔士大学光伏工程研究中心

【出处】

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真空科学与技术

【发表日期】

：

2002年1期

【关键词】

：

Al/Al2O3多层膜表面分析显微分析铝/氧化铝太阳能电池热蒸发沉积自然氧化材料 Al/Al2O3 Multilayers Surface ana

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用热蒸发沉积和自然氧化及加热法制备纳米量级的Al/Al2O3薄膜和多层膜.用X射线光电子谱仪(XPS)和透射电镜(TEM)对样品进行检测.XPS实验说明自然氧化的Al2O3膜层厚在2～5 nm.Al/Al2O3薄膜及多层膜的O与Al的原子浓度比为1.43～1.85.Ar离子刻蚀的XPS实验结果(刻蚀速率为0.09 nm/s)说明:2个对层的Al/Al2O3多层膜截面样品具有周期性结构.TEM观察到了5个对层的Al/Al2O3多层膜的层状态结构,其周期为4 nm.由此说明,热蒸发及自然氧化法是制备纳米量级的

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