预测HMX在溶液生长下的晶习

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附着能模型预测环四亚甲基四硝胺(HMX)在真空中的生长晶习面为(011)、(11—1)、(100)、(10—2)和(020)。本文运用分子动力学模拟碳酸丙烯酯(PC)溶剂对环四亚甲基四硝胺(HMX)真空生长晶习的影响,并采用修正的附着能模型预测其在溶液中的生长晶习;利用冷却结晶法析出环四亚甲基四硝胺晶体,并用光学显微镜表征晶习,将实验得到的晶习与预测的晶习进行比较,发现理论预测和实际生长习性吻合的非常好。
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